未雨綢繆---撰寫權(quán)利要求書的另一種思路
2006-01-27文/集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 穆建軍
發(fā)明人在完成一項(xiàng)發(fā)明創(chuàng)造之后,為使其發(fā)明創(chuàng)造獲得專利保護(hù),應(yīng)當(dāng)提交請(qǐng)求書、說(shuō)明書及其摘要和權(quán)利要求書等文件。在這些文件中,權(quán)利要求書撰寫質(zhì)量的好壞直接影響到該項(xiàng)發(fā)明創(chuàng)造能否獲得專利保護(hù)、能否盡快獲得專利保護(hù),以及能否獲得最佳的保護(hù)范圍。中國(guó)專利法第五十六條規(guī)定,發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以權(quán)利要求書的內(nèi)容為準(zhǔn)。可見(jiàn),一項(xiàng)發(fā)明創(chuàng)造要求保護(hù)的范圍是以權(quán)利要求書記載的技術(shù)內(nèi)容為準(zhǔn)的,權(quán)利要求書的撰寫方式和撰寫質(zhì)量直接影響著發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯@谋Wo(hù)范圍以及在專利侵權(quán)訴訟中的作用。
結(jié)合撰寫實(shí)踐,筆者認(rèn)為,專利代理人對(duì)于權(quán)利要求書的撰寫不應(yīng)該僅僅以得到授權(quán)為目的,更要重視得到什么樣的專利權(quán)。在撰寫權(quán)利要求書的準(zhǔn)備階段就要考慮到今后可能的專利侵權(quán)訴訟問(wèn)題,預(yù)計(jì)各種侵權(quán)途徑,以權(quán)利要求書能夠在專利侵權(quán)中起到積極的防線作用為指導(dǎo)思想,針對(duì)各種可能的侵權(quán)途徑,在多個(gè)方向和脈絡(luò)上布置獨(dú)立權(quán)利要求,使每個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求成為抵御侵權(quán)途徑的防線。
要達(dá)到上述目的,專利代理人在撰寫權(quán)利要求書的準(zhǔn)備階段與發(fā)明人之間進(jìn)行充分的交流和溝通是非常重要的。發(fā)明人要求專利權(quán)保護(hù)的是發(fā)明創(chuàng)造為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題所采取的一整套技術(shù)方案,權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求記載的是該技術(shù)方案中包含的全部必要技術(shù)特征。通常,發(fā)明人會(huì)提供技術(shù)交底書,其中提及的技術(shù)方案包含的技術(shù)特征我們可以稱之為顯性技術(shù)特征,那么在技術(shù)交底書的基礎(chǔ)上與發(fā)明人都溝通些什么呢?筆者認(rèn)為,與發(fā)明人的溝通要從技術(shù)角度和專利法律的角度,針對(duì)技術(shù)方案中的必要技術(shù)特征,幫助發(fā)明人分析該技術(shù)特征可能具有的各種變種或變形,也就是還有哪些方式可以替換該技術(shù)特征、替換該技術(shù)特征后也能達(dá)到同樣的技術(shù)效果。我們把這個(gè)過(guò)程稱為挖掘發(fā)明技術(shù)方案的隱性技術(shù)特征的過(guò)程。從另一個(gè)角度來(lái)看,這個(gè)過(guò)程也是一個(gè)探討和預(yù)計(jì)各種侵權(quán)可能性和侵權(quán)途徑的過(guò)程。在這個(gè)過(guò)程中,代理人既要充分認(rèn)識(shí)發(fā)明人提及的發(fā)明點(diǎn),又要找到潛在的各種可能的對(duì)必要技術(shù)特征的模仿和變形,還要進(jìn)一步分析發(fā)明創(chuàng)造可能涉及的領(lǐng)域和終端產(chǎn)品,從而對(duì)發(fā)明創(chuàng)造進(jìn)行全方位的保護(hù)。
例如,一個(gè)產(chǎn)品發(fā)明或方法發(fā)明,其顯性技術(shù)方案包括技術(shù)特征A、B、C和D。那么獨(dú)立權(quán)利要求可以寫成“一種X,其特征在于包括技術(shù)特征A、B、C和D”。如果通過(guò)和發(fā)明人的交流發(fā)現(xiàn)還可以用技術(shù)特征E來(lái)代替技術(shù)特征D,就應(yīng)該寫出另一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求,即“一種X,其特征在于包括A、B、C、E?!痹摢?dú)立權(quán)利要求就構(gòu)成了防范用技術(shù)特征E來(lái)侵權(quán)的一道防線。這里E和D有兩種情況:一種是E和D相比是以基本相同的手段,實(shí)現(xiàn)基本相同的功能,產(chǎn)生了基本相同的效果,即E和D等同;另一種情況是E和D相比是以不同的手段,實(shí)現(xiàn)了基本相同的功能,產(chǎn)生了基本相同的效果,即E和D不等同。也許有人會(huì)問(wèn):假如E和D等同,如果有侵權(quán)產(chǎn)品或方法用E代替了特征D,可以利用等同原則來(lái)判斷其侵權(quán),不必另外寫一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求。筆者認(rèn)為,對(duì)于比較簡(jiǎn)單的發(fā)明創(chuàng)造用等同原則往往比較容易判斷,而對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域、IT或通信領(lǐng)域的發(fā)明來(lái)說(shuō),由于其相對(duì)復(fù)雜,用等同原則往往不容易判斷。所以,增設(shè)一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求的好處實(shí)際上是擴(kuò)大了專利的保護(hù)范圍,也使保護(hù)范圍更加明確,從客觀上防止了他人用特征E來(lái)代替特征D進(jìn)行侵權(quán)的可能性,使專利權(quán)的保護(hù)多了一道防線。更為重要的是,專利代理人在和企業(yè)的發(fā)明人進(jìn)行交流的過(guò)程中可能會(huì)挖掘出更多地內(nèi)容。例如,如果X是方法,那么在步驟特征A、B、C或D中可能會(huì)挖掘出用來(lái)執(zhí)行該步驟的裝置或系統(tǒng)特征;如果X是產(chǎn)品,那么除了要挖掘制造該產(chǎn)品的方法和步驟特征之外,還可以在特征A、B、C或D中挖掘可能包含的系統(tǒng)、分系統(tǒng)、模塊以及新用途等特征,依此類推,會(huì)派生出若干個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求。按照單一性的規(guī)定,如果這些獨(dú)立權(quán)利要求屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思,那么就可以作為一件申請(qǐng)?zhí)岢?,這時(shí)需要注意說(shuō)明書在形式上和實(shí)質(zhì)內(nèi)容上對(duì)權(quán)利要求書的支持。如果這些獨(dú)立權(quán)利要求不滿足單一性的要求,那么就需要進(jìn)行分案,其結(jié)果就是派生出若干個(gè)專利,這就是一個(gè)產(chǎn)品或方法發(fā)明會(huì)形成一個(gè)專利池的道理。
對(duì)于企業(yè)的發(fā)明創(chuàng)造來(lái)說(shuō),專利代理人的任務(wù)除了要通過(guò)與企業(yè)發(fā)明人進(jìn)行上述交流之外,還要盡可能分析企業(yè)所在行業(yè)的專利技術(shù)現(xiàn)狀和本企業(yè)技術(shù)優(yōu)勢(shì)、產(chǎn)品鏈結(jié)構(gòu)、相關(guān)產(chǎn)品、工藝特點(diǎn)等,挖掘企業(yè)潛在專利技術(shù)資源。通過(guò)上述企業(yè)專利策劃的過(guò)程,幫助企業(yè)形成自己的專利池,進(jìn)而形成由企業(yè)專利池匯集而成的行業(yè)專利池。
總之,權(quán)利要求書要服務(wù)于專利權(quán)的保護(hù),權(quán)利要求書的撰寫,尤其是半導(dǎo)體、IT和通信技術(shù)領(lǐng)域發(fā)明專利權(quán)利要求書的撰寫,不僅要分析技術(shù)方案的顯性技術(shù)特征,還要注重挖掘技術(shù)方案的隱性技術(shù)特征,諸如方法中的裝置特征、方法中的系統(tǒng)特征、系統(tǒng)中的分系統(tǒng)特征、系統(tǒng)中的裝置特征、裝置中的功能模塊特征等等,從方法、裝置和系統(tǒng)等多個(gè)層面以不同的角度進(jìn)行權(quán)利要求書的撰寫,爭(zhēng)取盡可能大的保護(hù)范圍,使權(quán)利要求書能夠在專利權(quán)的保護(hù)中發(fā)揮應(yīng)有的防線作用。