近期，智利政府公布了商標、專利等相關法律的改法決定，與專利相關的改法內(nèi)容如下：

　　1.改法后，專利著錄項變更官費須在提交轉(zhuǎn)讓記錄請求時一并繳納，專利局有權(quán)要求申請人進一步提供相關文件；

　　2.有關支付專利維持費的新規(guī)定；

　　3.將工業(yè)外觀設計的保護期延長至 15 年；

　　4.工業(yè)外觀設計提交時可選擇無需實質(zhì)審查的自動注冊程序，但未經(jīng)實審的外觀設計不能提起侵權(quán)訴訟；

　　5.由于行政拖延造成的審查周期過長，申請人請求專利補充保護期限的時間自專利授權(quán)日起的6個月改為60天（工作日）；

　　6.PCT進入智利國家階段權(quán)利恢復截止日期的變化；

　　7.增加超頁費（超過80頁，每增加20頁加收88美元）及延遲繳納申請官費（改法后，專利申請費應在提交申請時或自申請日起30個工作日內(nèi)繳納，逾期不繳納視為放棄）的規(guī)定；

　　8.增加臨時申請類型。