美國(guó)專利再頒(Reissue)的程序和意義

2024-08-02

  文/北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 隋丹丹

 

  美國(guó)專利再頒程序是一種允許專利權(quán)人在專利授權(quán)后對(duì)專利文件進(jìn)行修改的法律程序。這項(xiàng)程序旨在糾正專利文件中存在的缺陷,提高專利的價(jià)值和應(yīng)用范圍。本文筆者簡(jiǎn)單介紹一下美國(guó)專利再頒的程序和意義。

 

  一、定義

  專利再頒程序允許專利權(quán)人從專利正式授權(quán)日開始,重新申請(qǐng)啟動(dòng)該專利的審查程序,要求對(duì)該專利申請(qǐng)文件中的權(quán)利要求進(jìn)行再次審查,以克服原專利申請(qǐng)文件中存在的缺陷,或擴(kuò)大或縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍。再頒專利意味著放棄(surrender)原專利。

 

  二、再頒程序的基準(zhǔn)(美國(guó)專利法第251條)

 ?。ㄒ唬@麢?quán)人需要證明原專利存在缺陷或?qū)@麢?quán)人在申請(qǐng)文件中要求保護(hù)的范圍不準(zhǔn)確,使得原專利部分或全部無(wú)效或無(wú)法實(shí)施。

 ?。ǘ┻@些缺陷是由沒(méi)有欺詐意圖(deceptive intent)的錯(cuò)誤造成的。

 ?。ㄈ┰兕C專利必須得到原說(shuō)明書的支持,不得增加新內(nèi)容。

 ?。ㄋ模?duì)于范圍擴(kuò)大的再頒請(qǐng)求,必須在原專利授權(quán)后2年內(nèi)提出。

 ?。ㄎ澹?duì)于范圍縮小的請(qǐng)求可在專利有效期內(nèi)任何時(shí)間提出。

 

  三、再頒程序的效力(美國(guó)專利法第252條)

  再頒專利的有效期限始終為原專利期限的剩余部分。

  如果再頒專利保護(hù)范圍不變或縮小,其權(quán)利要求效力與原專利相同,即再頒專利構(gòu)成原專利的延續(xù),并從原始專利之日起持續(xù)有效。

  如果保護(hù)范圍擴(kuò)大,則新的權(quán)利要求可能會(huì)受到第三方介入權(quán)的限制:

 ?。ㄒ唬┤绻趯@麢?quán)人獲得再頒專利之前,第三方生產(chǎn)制造了不侵犯原專利但侵犯再頒專利的產(chǎn)品,允許他們對(duì)再頒專利授權(quán)前已經(jīng)實(shí)施或準(zhǔn)備實(shí)施的技術(shù)繼續(xù)使用或銷售,但不允許制造新產(chǎn)品。

 ?。ǘ┤绻兕C專利為方法專利,美國(guó)法院可以準(zhǔn)許繼續(xù)實(shí)施在再頒專利之前已經(jīng)實(shí)施或已經(jīng)充分準(zhǔn)備實(shí)施的任何方法,只要法院認(rèn)為對(duì)于保護(hù)再頒專利前已經(jīng)做出的投資和已經(jīng)開始的業(yè)務(wù)是公平的。

 

   四、再頒程序的優(yōu)勢(shì)和風(fēng)險(xiǎn)

  再頒程序?yàn)閷@麢?quán)人提供了修改專利申請(qǐng)文件的途徑,允許糾正專利文件中的缺陷或加入針對(duì)競(jìng)爭(zhēng)者產(chǎn)品的權(quán)利要求。但風(fēng)險(xiǎn)在于,再頒程序相當(dāng)于重新審查新專利申請(qǐng),若再頒申請(qǐng)并未被批準(zhǔn),則原專利繼續(xù)有效;若再頒申請(qǐng)被授權(quán),則原專利權(quán)不復(fù)存在。再頒程序意味著專利權(quán)人承認(rèn)其原專利存在部分或全部無(wú)效或無(wú)法實(shí)施的情形,這可能使專利權(quán)人在專利訴訟中處于不利地位。

 

  五、再頒程序(Reissue)與再審程序(Reexamination)的比較

  再頒程序與再審程序均可用于修正專利授權(quán)缺陷和錯(cuò)誤。不同的是,再頒程序只能由專利權(quán)人啟動(dòng),其是專利權(quán)人對(duì)專利權(quán)的自我修正。再審程序可以由多方當(dāng)事人啟動(dòng),包括專利權(quán)人、非專利權(quán)人等,其可以是修正USPTO在審查中造成的專利授權(quán)缺陷和錯(cuò)誤。

 

  六、再頒程序失敗之后的策略

  如果專利再頒程序失敗,專利權(quán)人可以考慮調(diào)整策略以保護(hù)其專利權(quán)益,例如考慮其他法律程序單方再審(Ex Parte Reexamination)或多方重審(Inter Partes Review, IPR)、補(bǔ)充審查(Supplemental Examination)、更正證書(Certificates of Correction)、重新申請(qǐng)等策略最大限度地保護(hù)其專利權(quán)益。

 

  七、再頒程序的常用情況——擴(kuò)大已授權(quán)專利的范圍

 ?。ㄒ唬U(kuò)大已授權(quán)專利的范圍

  除了更正原專利中存在的缺陷之外,在實(shí)踐操作中,再頒專利還具有擴(kuò)大已授權(quán)專利的范圍的作用。也就是說(shuō),原專利權(quán)利要求的范圍比應(yīng)有的范圍窄,使得競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手有可能推出圍繞原專利權(quán)利要求設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。

  (二)再頒專利的理由

  由上述“審查基準(zhǔn)”可見,專利必須“有缺陷”才能申請(qǐng)?jiān)兕C專利。符合條件的缺陷之一是權(quán)利要求范圍太窄。因此,專利權(quán)人可以提交擴(kuò)大的再頒專利申請(qǐng),擴(kuò)大原專利權(quán)利要求的范圍或者加入針對(duì)競(jìng)爭(zhēng)者產(chǎn)品的新的權(quán)利要求,從而避免侵權(quán)。但是必須注意期限,擴(kuò)大的再頒專利申請(qǐng)必須在原專利授權(quán)日起兩年內(nèi)提交。

 ?。ㄈ┰瓕@麢?quán)利要求范圍太窄的適用情況

  原專利權(quán)利要求范圍太窄的一種適用情況是競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手在其制造的產(chǎn)品中省略了原專利獨(dú)立權(quán)利要求中的一些特征。假設(shè)原專利的一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求記載了特征ABC,而競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手推出了一款僅具有特征AB的產(chǎn)品,即競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品忽略了特征C。因此,我們可以提交包含特征AB的再頒申請(qǐng)。

 ?。ㄋ模┨峤粩U(kuò)大的再頒申請(qǐng)的程序

  提交擴(kuò)大的再頒申請(qǐng)后,USPTO將以類似于審查原始專利的方式對(duì)再頒專利申請(qǐng)進(jìn)行審查。再頒程序由原審查員處理。審查員將檢索并發(fā)出審查意見。申請(qǐng)人有機(jī)會(huì)通過(guò)提交權(quán)利要求修改和爭(zhēng)辯作出回復(fù)。如果擴(kuò)大的再頒專利申請(qǐng)被授權(quán),將最終獲得再頒專利。

  (五)再頒專利申請(qǐng)為專利授權(quán)后的繼續(xù)申請(qǐng)?zhí)峁┝艘粋€(gè)途徑

  一般來(lái)說(shuō),在母專利被授權(quán)后,繼續(xù)申請(qǐng)也失去了時(shí)機(jī)。但是如果申請(qǐng)?jiān)兕C申請(qǐng),在該再頒申請(qǐng)?zhí)幱趐ending狀態(tài)時(shí),可以提交再頒繼續(xù)申請(qǐng)。

  總之,再頒程序作為美國(guó)專利申請(qǐng)制度獨(dú)特性的一個(gè)方面,為專利權(quán)人提供了一種可以糾正專利缺陷的手段,使得專利權(quán)人的權(quán)利得到了最大程度的保護(hù),提高了專利的價(jià)值和應(yīng)用范圍,促進(jìn)了科技創(chuàng)新。

  

  

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